[发明专利]用于使用直流来施加周期性电压的方法和装置

摘要

公开了用于将脉冲式DC功率施加给等离子体处理室的方法和装置。在一些实施方式中，改变所施加功率的频率，用以实现诸如沉积速率、电弧率和膜特性之类的期望处理效果。此外，公开了一种方法和装置，该方法和装置在特定周期的反向电势部分期间利用相对较高的电势，用以减少靶材上可能的结节。该周期中反向电势部分、溅射部分和恢复部分的相对持续时间是可调整的，用以实现期望的处理效果。

主权项

一种用于将脉冲式DC功率施加给等离子体处理室的方法，所述方法包括：在所述脉冲式DC功率的特定周期的溅射部分期间，在第一持续时间内持续将负电势施加给阴极，所述负电势具有一幅值，由此所述负电势的所述施加实现了溅射；在所述特定周期的反向电势部分期间，在第二持续时间内持续将正电势施加给所述阴极，所述第二持续时间短于所述第一持续时间，所述正电势的幅值至少为所述负电势的所述幅值的百分之二十；以及在所述特定周期的恢复部分期间，在第三持续时间内持续施加恢复电势，所述恢复电势的幅值小于所述负电势的所述幅值并且小于所述正电势的所述幅值。