[发明专利]高分子薄膜的接合方法以及偏光薄膜的制造方法有效

专利信息
申请号: 201180030941.4 申请日: 2011-06-09
公开(公告)号: CN102947074A 公开(公告)日: 2013-02-27
发明(设计)人: 松尾直之;下田麻由 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: B29C65/16 分类号: B29C65/16;G02B5/30;B29K29/00;B29L11/00
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的课题在于,对聚乙烯醇系树脂薄膜等高分子薄膜实施抑制光吸收剂的使用且高品质的接合。本发明提供高分子薄膜的接合方法等,其为使高分子薄膜的表面与要接合的对象材料的表面面接触并对其界面进行激光熔接的高分子薄膜的接合方法,使所述高分子薄膜的至少所述界面侧成为吸水状态并照射激光,使所述被吸入的水吸收激光而实施所述激光熔接。
搜索关键词: 高分子 薄膜 接合 方法 以及 偏光 制造
【主权项】:
一种高分子薄膜的接合方法,其特征在于,其为使高分子薄膜的表面与要接合的对象材料的表面面接触并对其界面进行激光熔接的高分子薄膜的接合方法,其中,使所述高分子薄膜的至少所述界面侧成为吸水状态并照射激光,使所述被吸入的水吸收激光而实施所述激光熔接。
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