[发明专利]作为UV光栅或可调UV滤镜用于清洁半导体衬底的臭氧充气室有效
| 申请号： | 201180027801.1 | 申请日： | 2011-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN102934199A | 公开（公告）日： | 2013-02-13 |
| 发明（设计）人： | 耶-库恩·维克特·王;尚-I·周;贾森·奥古斯蒂诺 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | H01L21/02 | 分类号： | H01L21/02;H01L21/3065;H01L21/205 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 李献忠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种具有内部充气室的石英窗，其通过向该充气室供应含臭氧的气体能运行作为光栅或者UV滤镜。能够调整该充气室内的压强以阻挡UV光透射进入所述脱气腔室中，或调整UV光通过所述窗的透射率。当排空所述充气室时，所述充气室使得进入所述脱气腔室的UV光的透射最大化。 | ||
| 搜索关键词： | 作为 uv 光栅 可调 滤镜 用于 清洁 半导体 衬底 臭氧 充气 | ||
【主权项】：
一种脱气腔室的石英窗，在该脱气腔室中使用含臭氧的气体在UV光照射下清洁半导体衬底，所述石英窗包括：底表面，顶表面以及在所述底表面和所述顶表面之间延伸的侧壁；位于所述顶表面和所述底表面之间的充气室；以及与所述充气室流体连通的至少一个气体通道。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
