[发明专利]用于光刻的1.5D SLM有效
| 申请号： | 201180022494.8 | 申请日： | 2011-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN102985879A | 公开（公告）日： | 2013-03-20 |
| 发明（设计）人： | T.桑德斯特洛姆 | 申请（专利权）人： | 麦克罗尼克迈达塔有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 赵国荣 |
| 地址： | 瑞典*** | 国省代码： | 瑞典;SE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种改进的微光刻书写器，其在工件的表面上扫描调制图案。公开的SLM采用连续或准连续的辐射源工作在衍射模式中。微光刻书写器使用长且窄的SLM，并利用沿着SLM的窄轴的衍射效应来改进沿着该轴的书写特性。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 1.5 slm | ||
【主权项】：
一种微光刻系统，该微光刻系统曝光工件之上的辐射敏感层，该微光刻系统包括：SLM，在长轴上具有至少1000个微反射镜，而在窄轴上具有2至20个微反射镜，该SLM以衍射模式工作，以调制并中转辐射；照明装置，采用局部相干且连续或准连续的辐射照明所述SLM；中继光学系统，以与所述微反射镜不同的映射将来自于所述SLM的微反射镜的辐射投射至像面上，该映射利用沿着所述窄轴的局部相干，以产生增加的和消减的相干强度效应并锐化所述像面上的边缘清晰度；以及扫描机械装置，在所述SLM调制投射辐射时，该扫描机械装置在所述像面上扫描所述投射辐射。
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