[发明专利]光谱纯度滤光片有效
| 申请号： | 201180020839.6 | 申请日： | 2011-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN102859444A | 公开（公告）日： | 2013-01-02 |
| 发明（设计）人： | W·索尔;V·班尼恩;E·鲁普斯特拉;A·亚库宁;M·杰克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B5/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王静 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种光谱纯度滤光片，包括：材料体，多个孔延伸通过所述材料体。孔布置成抑制具有第一波长的辐射并允许具有第二波长的辐射的至少一部分透射通过所述孔。第二波长辐射比第一波长辐射短。所述材料体由具有对于第一波长的辐射基本上大于或等于70％的体反射率的材料形成。所述材料具有大于1000摄氏度的熔点。 | ||
| 搜索关键词： | 光谱 纯度 滤光 | ||
【主权项】：
一种光谱纯度滤光片，包括：材料体，多个孔延伸通过所述材料体，所述孔布置成抑制具有第一波长的辐射并允许具有第二波长的辐射的至少一部分透射通过所述孔，第二波长辐射的波长比第一波长辐射的波长短；所述材料体包括具有对于第一波长的辐射基本上大于或等于70％的体反射率和大于1000摄氏度的熔点的材料。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201180020839.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：燃料电池系统及其控制方法
- 下一篇：基于深度图像的人体姿态估计方法
