[发明专利]用于排列嵌段共聚物的表面处理有效
| 申请号： | 201180020759.0 | 申请日： | 2011-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN102858874A | 公开（公告）日： | 2013-01-02 |
| 发明（设计）人： | C·G·威尔森;C·贝茨;J·斯特拉恩;C·埃利森 | 申请（专利权）人： | 得克萨斯大学体系董事会 |
| 主分类号： | C08L53/00 | 分类号： | C08L53/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 任永利 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及合成和使用无规交联的被取代的聚苯乙烯共聚物作为聚合交联的表面处理剂（PXST)来控制在第一共聚物上沉积的嵌段共聚物的物理特征的取向的方法。所述方法具有许多用途，包括制造用于纳米压印光刻法的模板的半导体工业中的多种应用。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 排列 共聚物 表面 处理 | ||
【主权项】：
方法，其包括：a.提供：i）包含第一单体和第二单体的可交联聚合物，ii)包含第三单体和第四单体的嵌段共聚物，其中所述第三单体和所述第四单体在化学上与所述第一单体和所述第二单体不同，b.用所述可交联聚合物涂覆表面以产生第一膜；c.在使得可交联聚合物交联的条件下处理所述第一膜；d.用所述嵌段共聚物涂覆所述第一膜以产生第二膜；和e.在使得形成纳米结构的条件下处理所述第二膜，其中所述纳米结构的形状由所述第一膜的化学性质控制。
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