[发明专利]用于对基板的表面喷洒的设备以及方法无效
| 申请号： | 201180017782.4 | 申请日： | 2011-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN103097584A | 公开（公告）日： | 2013-05-08 |
| 发明（设计）人： | 马库斯·朗 | 申请（专利权）人： | 沃尔夫冈·单巴赫 |
| 主分类号： | C23F1/08 | 分类号： | C23F1/08;H05K3/00;H05K3/06;B05B13/04 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 李楠;安翔 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种用于对基板的表面喷洒的设备，其中，该设备具有至少一个用于输送流体到待处理的基板的表面上的第一喷嘴并且该第一喷嘴以与基板的第一间距来布置，其中，至少一个第二喷嘴以与基板的第二间距来布置，并且第二间距与第一间距的比在0.1至0.8的范围内，其中，最多有第一体积流量的流体能够通过至少一个第一喷嘴，并且最多有第二体积流量的流体能够通过至少一个第二喷嘴，其中，第二体积流量与第一体积流量的比在0.005至0.5的范围内。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 表面 喷洒 设备 以及 方法 | ||
【主权项】：
用于对基板的表面喷洒的设备，其中，所述设备具有至少一个用于输送流体到待处理的基板的表面上的第一喷嘴，并且所述第一喷嘴以与所述基板的第一间距来布置，其中，至少一个第二喷嘴以与所述基板的第二间距来布置，并且所述第二间距与所述第一间距的比在0.1至0.8的范围内，其中，最多有第一体积流量的流体能够通过所述至少一个第一喷嘴，并且最多有第二体积流量的流体能够通过所述至少一个第二喷嘴，其中，所述第二体积流量与所述第一体积流量的比在0.005至0.5的范围内。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于沃尔夫冈·单巴赫，未经沃尔夫冈·单巴赫许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201180017782.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
