[发明专利]光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物，其形成的光化射线敏感或辐射敏感膜以及使用该组合物形成图案的方法

摘要

本发明提供一种光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物，其具有优异的灵敏度、粗糙度特性和曝光宽容度，以及一种使用其形成图案的方法。所述组合物包含(A)当与酸作用时分解从而增加其在碱性显影剂中溶解度的树脂，以及(B)当曝光于光化射线或辐射时分解从而产生酸的化合物，所述化合物为下述通式(1‑1)的任何化合物。

主权项

一种光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物，包含：(A)当与酸作用时分解从而增加其在碱性显影剂中溶解度的树脂，以及(B)当曝光于光化射线或辐射时分解从而产生酸的化合物，所述化合物为下述通式(1‑1)的任何化合物，其中，A表示硫原子或碘原子，R1表示烷基、烯基、环脂族基团、芳烃基或杂环烃基，并且当m＝2时每个R1是独立的，条件是当m＝2时，两个R1可以相互结合从而形成环，Ar表示芳环基，并且当n≥2时每个Ar是独立的，X表示具有与Ar连接的碳原子的连接基团，并且当o≥2和/或n≥2时每个X是独立的，AN表示包含含氮杂环基的碱性部分，并且当o≥2和/或n≥2时每个AN是独立的，当A是硫原子时，n是1到3的整数并且m是满足m+n＝3的关系的整数，当A是碘原子时，n是1到2的整数并且m是满足m+n＝2的关系的整数，o是1至10的整数，并且Y‑表示阴离子。