[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物及使用其的光阻膜及图案形成方法有效
| 申请号： | 201180007408.6 | 申请日： | 2011-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN102834774A | 公开（公告）日： | 2012-12-19 |
| 发明（设计）人： | 稻崎毅;伊藤孝之;土村智孝;八尾忠辉;高桥孝太郎 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;C08F8/00;G03F7/004;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 臧建明 |
| 地址： | 日本东京港区*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： |
一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其包含(P)具有由下式(1)表示的重复单元的树脂；一种使用所述组合物的光阻膜；以及一种图案形成方法。 |
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| 搜索关键词： | 感光 射线 放射 线性 树脂 组合 使用 光阻膜 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，包含(P)树脂，所述(P)树脂具有由下式(1)表示的重复单元：![]()
其中R1至R3各自独立地表示氢原子或单价取代基，L1表示亚芳基，M1表示亚烷基、亚环烷基、亚烯基、-O-、-S-或包含两个或两个以上这些成员的组合的基团，X表示含有多个芳族环的基团，且所述多个芳族环经缩合而形成多环结构或经由单键而相互连接。
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