[实用新型]一种光栅尺压印平台有效

专利信息
申请号: 201120560108.8 申请日: 2011-12-28
公开(公告)号: CN202421719U 公开(公告)日: 2012-09-05
发明(设计)人: 刘红忠;于皓瑜;尹磊;史永胜;蒋维涛;丁玉成;卢秉恒 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G01B11/02
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 徐文权
地址: 710049 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 实用新型涉及一种光栅尺压印平台,包括具有凹槽形状的基座,在基座的中部固结有辅助基座,在基座的两端分别设置有能够滑动的玻璃门。本实用新型的光栅尺压印平台适用于机床超长光栅尺辊,该平台与压印机构配合使用,可以克服传统光栅制造中环境条件依赖性高、制造效率低、成本高的缺点,可以实现超长光栅尺的高速、低成本和连续制造。
搜索关键词: 一种 光栅尺 压印 平台
【主权项】:
一种光栅尺压印平台,其特征在于,包括具有凹槽形状的基座(01),在基座(01)的中部固结有辅助基座(02),在基座(01)的两端分别设置有能够滑动的玻璃门。
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