[实用新型]一种新型减反膜系结构有效

专利信息
申请号: 201120543319.0 申请日: 2011-12-22
公开(公告)号: CN202453522U 公开(公告)日: 2012-09-26
发明(设计)人: 叶祥云;汤士博 申请(专利权)人: 凤凰光学(上海)有限公司
主分类号: G02B1/11 分类号: G02B1/11;B32B33/00;B32B9/04
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 王敏杰
地址: 200001 上*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型提供了一种高强度减反射膜系结构,包括基材S-BSM81和镀在基材上的AR膜。其中AR膜是一种减反膜,从内到外包括九层膜结构:第一低折射率膜(L1)、中折射率膜(M)、第二低折射率膜(L2)、第一高折射率膜(H1)、第三低折射率膜(L3)、第二高折射率膜(H2)、第四低折射率膜(L4)、第三高折射率膜(H3)、第五低折射率膜(L5)。本实用新型所述高强度减反射膜系结构耐高温,能长久使用,对极端环境要求下的光学仪器性能稳定提供了一中生存可能,为光学镜片设计和制造提供便利。
搜索关键词: 一种 新型 减反膜系 结构
【主权项】:
一种减反膜系结构,其特征在于,包括基材和镀在基材上的AR膜;所述的AR膜是一种减反膜,从内到外包括九层膜结构:第一低折射率膜、中折射率膜、第二低折射率膜、第一高折射率膜、第三低折射率膜、第二高折射率膜、第四低折射率膜、第三高折射率膜、第五低折射率膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于凤凰光学(上海)有限公司,未经凤凰光学(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201120543319.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top