[实用新型]一种双向磁场增强装置有效

专利信息
申请号: 201120446602.1 申请日: 2011-11-11
公开(公告)号: CN202323013U 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 张振厚;赵崇凌;李士军;张健;张冬;洪克超;徐宝利;钟福强;陆涛;许新;王刚;刘兴;郭玉飞;王学敏;李松 申请(专利权)人: 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 代理人: 白振宇
地址: 110168 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 实用新型涉及提高PECVD设备的磁场,具体地说是一种可以提高原料利用率和提高膜层沉积速度,进而提高产能的双向磁场增强装置,包括真空室及石英管,其中石英管安装在真空室内,在石英管的周围分别设置有第一磁钢、第二磁钢、第三磁钢及第四磁钢;所述第一磁钢与第三磁钢相对设置、相互平行,分别位于石英管的上方和下方;第二磁钢与第四磁钢相对设置、相互平行,分别位于石英管的左侧和右侧;所述第二磁钢、第三磁钢及第四磁钢的极性相同,第一磁钢与第二磁钢、第三磁钢及第四磁钢的极性相反。本实用新型在石英管四周设置了四个磁钢,两两相对,提高了原料利用率和膜层沉积速度,进而提高了设备产能。
搜索关键词: 一种 双向 磁场 增强 装置
【主权项】:
一种双向磁场增强装置,其特征在于:包括真空室(1)及石英管(6),其中石英管(6)安装在真空室(1)内,在石英管(6)的周围分别设置有第一磁钢(2)、第二磁钢(3)、第三磁钢(4)及第四磁钢(5)。
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