[实用新型]新型大理石抛光磨块有效
| 申请号： | 201120369433.6 | 申请日： | 2011-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN202377930U | 公开（公告）日： | 2012-08-15 |
| 发明（设计）人： | 梁国阳 | 申请（专利权）人： | 梁国阳 |
| 主分类号： | B24D3/00 | 分类号： | B24D3/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 362300 福建省泉*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种新型大理石抛光磨块，包括磨块和基座，其磨块通过环氧树脂与基座固定连接；所述基座的顶部边缘设有凸缘，使基座顶部形成与磨块形状相适配的下凹空腔。本实用新型为了更好的提高板材的光泽度，添加入另一种草酸盐即草酸钛钾来改善磨块的化学抛光性能，加入一定量的粒度W1.5的金刚石微粉增强其物理抛光性能，添加后产品磨抛天然大理石的光泽度可达100°以上，磨抛人造岗石光泽度可达85°，工作效率显著提高，降低了企业的生产成本，提高了企业的经济效益。 | ||
| 搜索关键词： | 新型 大理石 抛光 | ||
【主权项】：
一种新型大理石抛光磨块，包括磨块和基座，其特征在于：所述磨块通过环氧树脂与基座固定连接；所述基座的顶部边缘设有凸缘，使基座顶部形成与磨块形状相适配的下凹空腔；所述基座和磨块通过沉头螺栓连接；所述基座和磨块之间设有联结钢板，联结钢板和基座焊接；基座、磨块和联结钢板上对应开设有螺栓孔。
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