[实用新型]一种坩埚有效
| 申请号： | 201120254245.9 | 申请日： | 2011-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN202144522U | 公开（公告）日： | 2012-02-15 |
| 发明（设计）人： | 吕铁铮;詹妍;张凤鸣;路忠林;林沄峰;盛雯婷 | 申请（专利权）人： | 天威新能源控股有限公司;保定天威集团有限公司 |
| 主分类号： | C30B15/10 | 分类号： | C30B15/10;C30B11/00;C30B28/06 |
| 代理公司： | 成都高远知识产权代理事务所(普通合伙) 51222 | 代理人： | 李高峡 |
| 地址： | 610200 四川省成都市*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 一种坩埚，它包括底部和侧壁，它的底部厚度为2-2.5厘米，且其底部开有倒圆锥形的槽口，槽口的深度为1-1.5厘米。本实用新型通过在坩埚底部特定位置开槽口提高该位置的热导率，使该位置形成适宜的过冷度而生成硅孪晶结构，并且以此孪晶结构作为子晶来实现整个硅熔体的定向凝固，得到高质量的多晶硅锭。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 坩埚 | ||
【主权项】：
一种坩埚，它包括底部(1)和侧壁(2)，其特征在于：它的底部厚度为2‑2.5厘米，且其底部开有倒圆锥形的槽口(3)，槽口(3)的深度(4)为1‑1.5厘米。
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