[实用新型]一种曝光装置和光刻机有效
| 申请号： | 201120250401.4 | 申请日： | 2011-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN202120037U | 公开（公告）日： | 2012-01-18 |
| 发明（设计）人： | 齐永莲;薛建设;刘志勇 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 罗建民;邓伯英 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种曝光装置和光刻机，曝光装置包括曝光灯和灯框，其中，还包括：带动所述曝光灯转动的接口底座；所述曝光灯安装在所述接口底座上，所述接口底座安装在所述灯框内。本实用新型提供的曝光装置，通过接口底座带动曝光灯匀速转动，使单位时间内曝光灯发出的光在掩模板上的照度分布均匀，从而使光刻胶的曝光均匀，以确保基板上经过曝光后得到的光刻胶图案的厚度均匀，提高产品的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 装置 光刻 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，包括曝光灯和灯框，其特征在于，还包括带动所述曝光灯转动的接口底座；所述曝光灯安装在所述接口底座上，所述接口底座安装在所述灯框内。
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