[实用新型]均匀清洗装置有效
| 申请号： | 201120215455.7 | 申请日： | 2011-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN202146886U | 公开（公告）日： | 2012-02-22 |
| 发明（设计）人： | 奂微微 | 申请（专利权）人： | 苏州五方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12;B08B11/00 |
| 代理公司： | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人： | 董建林 |
| 地址： | 215200 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种均匀清洗装置，包括槽体，所述槽体的下端设置有超声波发生器，所述槽体的侧壁上端分别设置有挡板，所述挡板的边缘设置有梯形凸起，所述相邻梯形凸起之间为凹面梯形齿，所述挡板上的凹面梯形齿设置在同一个平面上，所述相邻梯形凸起、相邻凹面梯形齿的形状相同。本实用新型通过打磨机将挡板上的尖角打磨成凹面梯形齿，使得水流的地方平整，水流带动杂质从水槽的四周溢出，快速且均匀的去除了水中的杂质，保证镜片的清洗质量。 | ||
| 搜索关键词： | 均匀 清洗 装置 | ||
【主权项】：
一种均匀清洗装置，包括槽体，所述槽体的下端设置有超声波发生器，其特征在于：所述槽体的侧壁上端分别设置有挡板，所述挡板的边缘设置有梯形凸起，所述相邻梯形凸起之间为凹面梯形齿。
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