[实用新型]一种用于加工抛光轮的模具有效
| 申请号: | 201120204224.6 | 申请日: | 2011-06-16 |
| 公开(公告)号: | CN202174513U | 公开(公告)日: | 2012-03-28 |
| 发明(设计)人: | 蔺小军;史耀耀;张军锋;段继豪;任军学;李小彪;杨阔;董婷 | 申请(专利权)人: | 西北工业大学 |
| 主分类号: | B24D18/00 | 分类号: | B24D18/00 |
| 代理公司: | 西北工业大学专利中心 61204 | 代理人: | 陈星 |
| 地址: | 710072 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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| 摘要: | 本实用新型提出了一种用于加工抛光轮的模具,模具基体为长方体,底面平面度≤0.01,模具基体内开有靠模和导向槽,靠模为四分之一凹球面,凹球面半径与待抛光圆弧部件的半径R相同,靠模后段为导向槽,导向槽为二分之一凹圆柱,凹圆柱半径为R,凹圆柱长度为5~15mm。采用本实用新型的模具加工出相应抛光轮后,可以用于数控系统中对圆弧部件进行自动化抛光,能够保证过渡圆弧部分的表面质量稳定,抛光的一致性好,且抛光效率和稳定性大大提高。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 用于 加工 抛光轮 模具 | ||
【主权项】:
一种用于加工抛光轮的模具,其特征在于:模具基体(1)为长方体,长方体底面进行平面磨,平面度≤0.01;在模具基体(1)内开有靠模(2)和导向槽(3),靠模(2)为四分之一凹球面,用于加工抛光轮,凹球面半径与待抛光圆弧部件的半径R相同,凹球面球心距离竖直径向定位基准面(4)的距离为R,其中竖直径向定位基准面(4)与模具基体底面的垂直度≤0.012,靠模(2)的加工精度为±0.01mm,表面粗糙度Ra为12.5~25;靠模(2)后段为导向槽(3),用于加工抛光轮时引导抛光轮,导向槽为二分之一凹圆柱,凹圆柱半径为R,凹圆柱轴线距竖直径向定位基准面(4)的距离为R,凹圆柱长度为5~15mm,导向槽(3)的加工精度为±0.01mm;导向槽末端有水平径向定位基准面(5)和轴向定位基准面(6),水平径向定位基准面(5)距模具基体上表面的距离为R+3mm~R+10mm,水平径向定位基准面(5)与模具基体底面的平行度≤0.012,轴向定位基准面(6)与模具基体底面的垂直度≤0.012。
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