[实用新型]一种倾斜式基片架镀膜装置有效
申请号: | 201120163872.1 | 申请日: | 2011-05-13 |
公开(公告)号: | CN202131366U | 公开(公告)日: | 2012-02-01 |
发明(设计)人: | 逄增伦 | 申请(专利权)人: | 青岛海德曼光电技术有限公司 |
主分类号: | C23C14/50 | 分类号: | C23C14/50 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 266000 山东省青岛市*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种倾斜式基片架镀膜装置,包括真空镀膜室、轨道和活动架,其中,活动架自上而下设置有多个横梁,横梁上进一步设置有槽托,槽托内设置有坡面槽,相邻两个横梁上的坡面槽彼此相对,横梁、坡面槽与槽托在制造时一体成型。真空镀膜室底部螺栓紧固有轨道,活动架的底部设置有轨道轮,轨道轮与轨道之间滑动连接。相邻两个彼此相对的坡面槽用于安置触摸屏,触摸屏的两端斜搭在坡面槽内。本实用新型结构简单,使用方便,避免切除触摸屏上下两边,避免资源浪费。 | ||
搜索关键词: | 一种 倾斜 式基片架 镀膜 装置 | ||
【主权项】:
一种倾斜式基片架镀膜装置,包括真空镀膜室、轨道和活动架,其特征在于,所述活动架自上而下设置有多个横梁,所述横梁上进一步设置有槽托,所述槽托内设置有坡面槽,相邻两个横梁上的所述坡面槽彼此相对,所述横梁、所述坡面槽与所述槽托在制造时一体成型。
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