[实用新型]散射曝光系统有效
| 申请号： | 201120163753.6 | 申请日： | 2011-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN202049331U | 公开（公告）日： | 2011-11-23 |
| 发明（设计）人： | 叶茂贤 | 申请（专利权）人： | 广西钦州天山微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/00 |
| 代理公司： | 桂林市持衡专利商标事务所有限公司 45107 | 代理人： | 苏家达 |
| 地址： | 535413 广西壮*** | 国省代码： | 广西;45 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种散射曝光系统，包括使菲林架光刻平台在其内曝光的暗室，暗箱内设置曝光机构和通风机构，所述曝光机构设于菲林架光刻平台上方，包括安装在反光罩内的曝光灯，所述反光罩的反光面上有密集的凹陷；所述通风机构包括将冷风通入暗室的送风管和将热风排出暗室的排风管。在不增加曝光灯亮度和高度的情况下，本实用新型散射曝光系统通过改变反光罩的反光面形状来提高曝光散射面，降低反光罩高度进而增大曝光强度，并配置送风机和排风机改善通风条件，降低暗室温度，满足曝光工序的工艺要求。 | ||
| 搜索关键词： | 散射 曝光 系统 | ||
【主权项】：
散射曝光系统，包括使菲林架光刻平台(1)在其内曝光的暗室(2)，暗箱(2)内设置曝光机构和通风机构，其特征在于：所述曝光机构设于菲林架光刻平台(1)上方，包括安装在反光罩(3)内的曝光灯，所述反光罩(3)的反光面上有密集的凹陷；所述通风机构包括将冷风通入暗室(2)的送风管和将热风导出暗室(2)的排风管。
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