[实用新型]齿列矫正结构有效
| 申请号： | 201120078132.8 | 申请日： | 2011-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN202036345U | 公开（公告）日： | 2011-11-16 |
| 发明（设计）人： | 魏佑臻;蔡志昌 | 申请（专利权）人： | 美萌科技有限公司 |
| 主分类号： | A61C7/00 | 分类号： | A61C7/00 |
| 代理公司： | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人： | 孙皓晨 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提供一种齿列矫正结构，包括有本体、固定于本体底面的底座、一球形体以及一滑盖。前述本体于顶面设有至少一容置槽，供置放一齿列矫正线；于邻近容置槽的顶面设有一凹座；于凹座的两侧则分别设有至少一轨道。前述球形体以可滚动方式容置于前述凹座内。前述滑盖则以两侧边可滑动地结合于本体的轨道内，并于一内侧面上设有一纵走沟槽；该纵走沟槽供与该球形体相结合，且其沟深由前端至后端逐渐变浅。由此，当完全推入滑盖时，该球形体卡合于前述纵走沟槽内沟深最浅处，而得以使滑盖稳定地结合于本体上。 | ||
| 搜索关键词： | 矫正 结构 | ||
【主权项】：
一种齿列矫正结构，其特征在于，包括：一本体，于其顶面设有至少一容置槽，供置放一齿列矫正线；于邻近前述容置槽的顶面设有一凹座；于前述凹座的两侧则分别设有至少一条轨道；一底座，固定于前述本体的底面；一球形体，以可滚动方式容置于前述凹座内；以及一滑盖，以两侧边可滑动地结合于前述本体的轨道内，并于该滑盖的一内侧面上设有一纵走沟槽；该纵走沟槽与该球形体相结合，且该纵走沟槽沟深由前端至后端逐渐变浅；当完全推入滑盖时，该球形体卡合于前述纵走沟槽内沟深最浅处使该滑盖得以与该本体相互结合。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于美萌科技有限公司，未经美萌科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201120078132.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
