[实用新型]一种多晶硅还原炉内衬涂层有效
| 申请号： | 201120064775.7 | 申请日： | 2011-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN202220083U | 公开（公告）日： | 2012-05-16 |
| 发明（设计）人： | 胡倾宇 | 申请（专利权）人： | 胡倾宇 |
| 主分类号： | C01B33/035 | 分类号： | C01B33/035 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200433 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本实用新型涉及一种应用于多晶硅还原炉的内侧炉壁涂层(简称内衬涂层)以及该涂层的制造方法，具体的是改良西门子法多晶硅还原炉内衬防腐蚀红外反射涂层。所述涂层系金属陶瓷材料，在改良西门子法多晶硅还原炉内侧炉壁上直接涂敷。采用的涂敷方法为物理气相沉积法或者化学气相沉积法。所述多晶硅还原炉内衬涂层的厚度为1-10微米，制造成本低，对炉壁的附着力强。该涂层耐高温，耐强酸强碱腐蚀，耐机械冲击和刮削，红外反射效率高，使用寿命长，可以有效降低改良西门子法多晶硅还原炉内热能向炉外传递的损失。该涂层取代纯金红外反射涂层，因而大大降低了涂层材料的费用，从而可以大幅降低改良西门子法制造多晶硅产品的成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 多晶 还原 内衬 涂层 | ||
【主权项】：
一种多晶硅还原炉内侧炉壁涂层，其特征在于：(1)是一种金属陶瓷涂层，或(2)是几层不同种类的金属陶瓷涂层的组合，是由物理气相沉积(PVD)或者化学气相沉积法(CVD)制备的。
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