[发明专利]一种基于聚二甲基硅氧烷的形状记忆复合物有效
| 申请号： | 201110462811.X | 申请日： | 2011-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN102604298B | 公开（公告）日： | 2016-12-14 |
| 发明（设计）人： | 潘毅;郑朝晖;李宗慧;丁小斌;彭宇行;张鹏 | 申请（专利权）人： | 中国科学院成都有机化学有限公司 |
| 主分类号： | C08L33/12 | 分类号： | C08L33/12;C08L83/06;C08L83/04;C08F220/14;C08F220/28;C08F222/14 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610041 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及一种基于聚二甲基硅氧烷的形状记忆复合物，其是由线性或交联的乙烯基聚合物与PDMS或末端由羟基封端的聚二甲基硅氧烷(PDMS‑OH)原位复合形成的共混或半互穿网络复合物。发明的形状记忆聚合物材料可以通过调节乙烯基化合物选用的类型、PDMS或PDMS‑OH所占的比例以及交联剂的量来控制材料的综合性能微观结构、形状记忆性能(如恢复温度、恢复速率、恢复时间等)、热力学性能(如储能模量、损耗模量、熔点、玻璃化温度等)。该聚合物材料成型赋形容易，能加工成复杂的形状，易于操作，在航空航天、自动控制、医学、能源、自拆卸系统等领域具有潜在的应用价值。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 聚二甲基硅氧烷 形状 记忆 复合物 | ||
【主权项】：
一种基于聚二甲基硅氧烷(PDMS)的形状记忆复合物，其特征在于该复合物为线性或交联的乙烯基聚合物与PDMS或末端由羟基封端的聚二甲基硅氧烷(PDMS‑OH)原位复合形成的共混或半互穿网络复合物；PDMS或PDMS‑OH选用重均分子量在600‑2000范围的低聚体，乙烯基聚合物包括由乙烯基单体、引发剂聚合成的线性聚合物或由乙烯基单体、交联单体和引发剂合成的交联乙烯基聚合物；PDMS或PDMS‑OH低聚体占5％至30％，乙烯基单体占70％至95％，双官能团交联剂占0至5％，引发剂占0.2％至3％，所说百分比是以所说的形状记忆聚合物反应混合物的总重量为基础的重量百分比，所有组分所占百分比之和为100％。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院成都有机化学有限公司，未经中国科学院成都有机化学有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110462811.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
