[发明专利]晶体面阵的制作方法以及晶体探测器有效
| 申请号： | 201110425488.9 | 申请日： | 2011-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN103158203A | 公开（公告）日： | 2013-06-19 |
| 发明（设计）人： | 赵太泽;刘士涛;孟庆照 | 申请（专利权）人： | 上海联影医疗科技有限公司 |
| 主分类号： | B28D5/00 | 分类号： | B28D5/00;B24B9/06;G01T1/202 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 骆希聪 |
| 地址： | 201821 上海市嘉*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种晶体面阵的制作方法，用以减少晶体面阵制作过程中去除的晶体量。该制作方法包括以下步骤：首先将多个晶体单元拼接成晶体面阵，其中沿晶体面阵的第一方向排列的多个晶体单元的高度预先根据一倾斜面规划，从而使多个晶体单元中至少有部分晶体单元之间的高度不相等。之后对晶体面阵进行去除加工，以形成所述倾斜面。 | ||
| 搜索关键词： | 晶体 制作方法 以及 探测器 | ||
【主权项】：
一种晶体面阵的制作方法，包括：将多个晶体单元拼接成晶体面阵，其中沿所述晶体面阵的第一方向排列的多个晶体单元的高度预先根据倾斜面规划，从而使所述多个晶体单元中至少有部分晶体单元之间的高度不相等；对所述晶体面阵进行去除加工，以形成所述倾斜面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海联影医疗科技有限公司，未经上海联影医疗科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110425488.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种离心式硫化氢压缩机
- 下一篇：管接头胀接胀套模
