[发明专利]曝光装置及曝光方法无效
| 申请号： | 201110418418.0 | 申请日： | 2011-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN102436150A | 公开（公告）日： | 2012-05-02 |
| 发明（设计）人： | 许哲豪;施明宏;薛景峰 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 欧阳启明 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光装置及曝光方法。所述方法包括：利用曝光光源来提供光线至所述光阻层；以及利用反射板来将穿过所述光阻层及所述透光基板的光线反射回所述光阻层。本发明可缩小光阻层图案的线距。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，用于对一透光基板上的光阻层进行曝光，其特征在于：所述曝光装置包括：光掩模，设置于所述光阻层的一侧；曝光光源，用于提供光线至所述光阻层，其中所述曝光光源所提供的光线是穿过所述光掩模来到达所述光阻层；以及反射板，设置于所述光阻层的相对一侧，用于将穿过所述光阻层及所述透光基板的光线反射回所述光阻层。
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