[发明专利]等离子体处理装置以及涡流等离子体反应器

摘要

本发明公开了一种等离子体处理装置以及涡流等离子体反应器。本发明的等离子体处理装置中，将含有全氟化物的废气利用切线注入涡流等离子体反应器，利用产生的涡流及等离子体火炬引发的逆向涡流，使等离子体火炬的高能电子团能与全氟化物与水分及氧气充分接触并引发快速的化学反应；再利用文氏涤气塔、湿式洗涤塔及一泡沫去除器，将反应所产出的酸性气体、粒状物去除，以达成高破坏去除效率的目的。因此，本发明不需要高能量的电源供应及高温的反应器，就能达成有效且彻底的破坏全氟化物的目的。

主权项

一种全氟化物的等离子体处理装置，其特征在于，包括：一涡流等离子体反应器，其一端设有一等离子体火炬，另一端设有一组气体注入器及一法兰连接口，其中，利用该气体注入器将废气添加水分后以切线方式注入涡流等离子体反应器内形成气旋涡流，废气受到等离子体火炬激发进行化学反应再形成逆向的高速气旋喷流由该法兰连接口排出涡流等离子体反应器，一文氏涤气塔，连接于涡流等离子体反应器之后，其中，有液体喷嘴用于降温、除酸及去除粒状物，一湿式洗涤塔，连接于文氏涤气塔之后，其中，有填充材料、除雾器及洗涤液喷嘴，用于去除酸性气体，以及一泡沫去除器，连接于湿式洗涤塔出口端。