[发明专利]晶片封装体及其形成方法有效

专利信息
申请号: 201110406269.6 申请日: 2011-12-08
公开(公告)号: CN102543922A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: 张恕铭;陈键辉;何彦仕;刘建宏;姚皓然;温英男 申请(专利权)人: 精材科技股份有限公司
主分类号: H01L23/485 分类号: H01L23/485;H01L21/60
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种晶片封装体及其形成方法,该晶片封装体包括:一半导体基底,具有一第一表面及相反的一第二表面;一漏极区,位于该半导体基底中;一源极区,位于该半导体基底中;一栅极,位于该半导体基底之上或至少部分埋于该半导体基底之中,其中该栅极与该半导体基底之间隔有一栅极介电层;一漏极导电结构,设置于该半导体基底的该第一表面上,且电性连接该漏极区;一源极导电结构,设置于该半导体基底的该第二表面上,且电性连接该源极区;以及一栅极导电结构,设置于该半导体基底的该第一表面上,且电性连接该栅极。本发明可缩小电子产品的尺寸,并可缩短电性信号的传递距离而提升电子产品的效能。
搜索关键词: 晶片 封装 及其 形成 方法
【主权项】:
一种晶片封装体,其特征在于,包括:一半导体基底,具有一第一表面及与该第一表面相反的一第二表面;一漏极区,位于该半导体基底中;一源极区,位于该半导体基底中;一栅极,位于该半导体基底之上或至少部分埋于该半导体基底之中,其中该栅极与该半导体基底之间隔有一栅极介电层;一漏极导电结构,设置于该半导体基底的该第一表面上,且电性连接该漏极区;一源极导电结构,设置于该半导体基底的该第二表面上,且电性连接该源极区;以及一栅极导电结构,设置于该半导体基底的该第一表面上,且电性连接该栅极。
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