[发明专利]折射率分布测量方法、装置和制造光学元件的方法

摘要

本发明涉及折射率分布测量方法、装置和制造光学元件的方法，该方法通过分别导致基准光入射到以多个放置状态位于第一介质和第二介质中的被检体来测量第一透过波前和第二透过波前，计算相对于被检体的放置状态的变化的像差灵敏度并且通过使用像差灵敏度和在各放置状态中测量的第一和第二透过波前计算在各放置状态中的每一个中的被检体的对准误差。该方法还计算分别当导致基准光入射到以包含对准误差的放置状态位于第一介质和第二介质中的基准被检体时可获取的第一和第二基准透过波前，并且通过使用第一和第二透过波前和第一和第二基准透过波前计算从中去除其形状成分的被检体的折射率分布。

主权项

一种折射率分布测量方法，用于通过使用具有第一折射率的第一介质和具有第二折射率的第二介质来测量被检体的折射率分布，第一折射率和第二折射率相互不同并且与被检体的折射率不同，所述方法包括：透过波前测量步骤，使得基准光入射到被放置于第一介质中的被检体以测量被检体的第一透过波前，并且使得基准光入射到被放置于第二介质中的被检体以测量被检体的第二透过波前；基准透过波前计算步骤，计算当使得基准光入射到被放置于第一介质中的具有已知的形状和已知的折射率分布的基准被检体时能够获取的基准被检体的第一基准透过波前，并且计算当使得基准光入射到被放置于第二介质中的所述基准被检体时能够获取的所述基准被检体的第二基准透过波前；和折射率分布计算步骤，通过使用第一和第二透过波前以及第一和第二基准透过波前计算从中去除了被检体的形状分量的折射率分布，其特征在于，透过波前测量步骤通过使得基准光入射到以多个放置状态被放置于第一介质中的被检体来测量第一透过波前，并且通过使得基准光入射到以所述多个放置状态被放置于第二介质中的被检体来测量第二透过波前，所述方法还包括对准误差计算步骤，所述对准误差计算步骤计算相对于被检体的放置状态的变化的像差灵敏度，并且通过使用所述像差灵敏度和在所述多个放置状态中测量的第一和第二透过波前来计算在第一和第二透过波前的测量中的所述多个放置状态中的每一个中的被检体的对准误差，以及基准透过波前计算步骤计算分别在使得基准光入射到以包含所述对准误差的放置状态被放置于第一介质和第二介质中的基准被检体时能够获取的第一和第二基准透过波前。