[发明专利]工件台和掩模台的同步控制方法及其系统有效
| 申请号： | 201110383912.8 | 申请日： | 2011-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN103135357A | 公开（公告）日： | 2013-06-05 |
| 发明（设计）人： | 吴立伟;杨晓燕 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种工件台和掩模台的同步控制方法，所述工件台和所述掩模台安装在光刻机的整机框架上，包括以下步骤：设定所述工件台和所述掩模台的期望位置信号；获取所述工件台和所述掩模台的实际位置信号；通过所述工件台的期望位置信号和实际位置信号之差，获取所述工件台的伺服误差；通过所述掩模台的期望位置信号和实际位置信号之差，获取所述掩模台的伺服误差；将所述工件台的伺服误差通过一转换环节加入到所述掩模台的力信号处以进行同步。本发明提出的两种同步控制方法相比现有的控制方法，均能有效的提高工件台掩模台各轴同步性能。 | ||
| 搜索关键词： | 工件 掩模台 同步 控制 方法 及其 系统 | ||
【主权项】：
一种工件台和掩模台的同步控制方法，所述工件台和所述掩模台安装在光刻机的整机框架上，其特征在于：包括以下步骤：设定所述工件台和所述掩模台的期望位置信号，所述掩摸台的期望位置信号为所述工件台的期望位置信号除以光刻机的镜头倍率取反；获取所述工件台和所述掩模台的实际位置信号；通过所述工件台的期望位置信号和实际位置信号之差，获取所述工件台的伺服误差；通过所述掩模台的期望位置信号和实际位置信号之差，获取所述掩模台的伺服误差；将所述工件台的伺服误差通过一转换环节加入到所述掩模台的力信号处以进行同步。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备有限公司，未经上海微电子装备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110383912.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
