[发明专利]等离子体处理装置及处理系统有效
申请号: | 201110382582.0 | 申请日: | 2011-11-24 |
公开(公告)号: | CN102479658A | 公开(公告)日: | 2012-05-30 |
发明(设计)人: | 田中诚治 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种等离子体处理装置及处理系统。多层分批式的等离子体处理装置即使被处理体是大型的也能够对多个该被处理体同时实施均匀的等离子体处理。其具有:接地线,其连接于两个以上的下部电极的每一个的与用于载置被处理体的载置面相反一侧的面的中央部、或者用于和下部电极构成电极对的上部电极的每一个的与相对面相反的一侧的面的中央部中的任意一个中央部,该相对面与载置面相对;高频电供给线,其连接于未连接有接地线的另一个中央部;屏蔽构件,其在处理室的内部收容接地线及高频电供给线;阻抗调整机构,其设置在各个接地线上,用于对各个电极对单独进行阻抗调整。 | ||
搜索关键词: | 等离子体 处理 装置 系统 | ||
【主权项】:
一种等离子体处理装置,其使用等离子体同时处理两个以上的被处理体,其特征在于,该等离子体处理装置具有:处理室;两个以上的下部电极,其设置在上述处理室的内部,具有用于载置上述被处理体的载置面;与上述下部电极相同数量的上部电极,其设置在上述处理室的内部,具有与上述载置面相对的相对面,用于与相对的上述下部电极构成电极对;接地线,其连接于各个上述下部电极的与上述载置面相反一侧的面的中央部、或者各个上述上部电极的与上述相对面相反一侧的面的中央部中的任意一个中央部;高频电供给线,其连接于另一个中央部,该另一个中央部是各个上述下部电极的与上述载置面相反一侧的面的中央部、或者各个上述上部电极的与上述相对面相反一侧的面的中央部中的、未连接有上述接地线的另一个中央部;屏蔽构件,其设置在上述处理室的内部,用于在该处理室的内部收容上述接地线及上述高频电供给线;阻抗调整机构,其设置于各个上述接地线,用于对各个上述电极对单独进行阻抗调整。
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