[发明专利]一种复合式磁控溅射阴极有效

专利信息
申请号: 201110379503.0 申请日: 2011-11-24
公开(公告)号: CN102420091A 公开(公告)日: 2012-04-18
发明(设计)人: 邱清泉;丁发柱;戴少涛;张志丰;古宏伟 申请(专利权)人: 中国科学院电工研究所
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人: 关玲
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种复合式磁控溅射阴极,由平面靶材(1)、水冷背板(2)、外永磁体(3、4)、内永磁体(5、6)、外电磁线圈(7、8)、内电磁线圈(9、10)、外磁轭(11、12)、内磁轭(13、14)、底磁轭(15)和框架(16)构成。外永磁体(3、4)的极性相同,内永磁体(5、6)的极性相同,外永磁体和内永磁体的极性相反。两个外电磁线圈(7、8)构成一闭合线圈,两个内电磁线圈(9、10)构成一闭合线圈,外电磁线圈和内电磁线圈通过引线分别连接到供电电源。通过调节外电磁线圈和内电磁线圈通电电流的大小和方向,实现磁控溅射阴极磁场强度和磁场分布形状的变化,从而调节溅射速率、磁场平衡度和靶材利用率。
搜索关键词: 一种 复合 磁控溅射 阴极
【主权项】:
一种复合式磁控溅射阴极,其特征在于:所述的磁控溅射阴极由平面靶材(1)、水冷背板(2)、两个外永磁体(3、4)、两个内永磁体(5、6)、两个外电磁线圈(7、8)、两个内电磁线圈(9、10)、两对外磁轭(11、12)、两对内磁轭(13、14)、底磁轭(15)和框架(16)构成;水冷背板(2)紧密安装在靶材(1)的下方;外永磁体(3、4)、内永磁体(5、6)安装在水冷背板(2)下方;第一外磁轭(11)安装在第一外永磁体(3)的下方,第二外磁轭(12)安装于第二外永磁体(4)的下方,第一内磁轭(13)安装于第一内永磁体(5)的下方,第二内磁轭(14)安装于第二内永磁体(6)的下方;底磁轭(15)位于外磁轭和内磁轭下方;所述的外永磁体、内永磁体、外电磁线圈、内电磁线圈、外磁轭、内磁轭和底磁轭安装在框架(16)中;所述的平面靶材(1)通过电源线连接到阴极电源;所述的两个内电磁线圈(9、10)安装在由外磁轭(11、12)、内磁轭(13、14)和底磁轭(15)包围的空间中偏内的位置,外电磁线圈(7、8)安装在由外磁轭(11、12)、内磁轭(13、14)和底磁轭(5)包围的空间中偏外的位置;外永磁体(3、4)和内永磁体(5、6)产生磁控溅射阴极的主磁场,外电磁线圈(7、8)和内电磁线圈(9、10)产生磁控溅射阴极的辅助磁场。
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