[发明专利]一种亚波长金属-介质光栅反射偏振光变膜及制作方法无效
| 申请号： | 201110377643.4 | 申请日： | 2011-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN102401922A | 公开（公告）日： | 2012-04-04 |
| 发明（设计）人： | 陈永利;刘文霞;陈蕴智;蔡圣燕;赵小梅 | 申请（专利权）人： | 天津科技大学 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02B5/18;G03F7/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 300222 天*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种亚波长金属-介质光栅反射偏振光变膜及制作方法，该亚波长金属-介质光栅反射偏振光变膜包括介质基底层、金属层、光栅层，透明介质层、半透明金属层、透明保护层，所述光栅层为金属材料和介质材料构成的亚波长金属-介质光栅，所述的金属材料和介质材料间隔排列。该光变膜有特殊的反射偏振光变性能，可用于装饰、防伪等领域。在制作工艺上，用纳米压印(或模压)与镀(或涂布)相结合的技术加工，制作过程简便易操作，可以批量生产。制作的光变膜内含有同参数的正弦金属-介质光栅，而光变膜的设计却基于矩形金属-介质光栅结构，它们有相似的颜色特征。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 波长 金属 介质 光栅 反射 偏振光 制作方法 | ||
【主权项】：
一种亚波长金属‑介质光栅反射偏振光变膜，由下向上依次包括：介质基底层、金属层、光栅层，透明介质层、半透明金属层、透明保护层，其特征在于：所述光栅层为金属材料和介质材料构成的亚波长金属‑介质光栅，所述的金属材料和介质材料间隔排列。
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