[发明专利]用于黑底的掩模有效
| 申请号: | 201110375525.X | 申请日: | 2011-11-23 |
| 公开(公告)号: | CN102749802A | 公开(公告)日: | 2012-10-24 |
| 发明(设计)人: | 金镇必;朴承烈;卢韶颖;李振福 | 申请(专利权)人: | 乐金显示有限公司 |
| 主分类号: | G03F1/62 | 分类号: | G03F1/62;G02F1/1362 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;孙海龙 |
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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| 摘要: | 本发明公开了一种用于为显示装置形成黑底的掩模,所述显示装置包括数据线,所述数据线具有相对于像素区的中心部分的折弯结构,所述掩模包括:边框,其具有矩形形状;以及基板,其布置在所述边框上,并且包括透光部分和阻光部分,其中,所述透光部分包括第一透光图案和处于相邻的第一透光图案之间的光控制部分,并且所述透光部分还包括与所述像素区的所述中心部分相对应的折弯部分,并且其中,所述折弯部分布置为距与其相邻的透光图案的距离相等。 | ||
| 搜索关键词: | 用于 黑底 | ||
【主权项】:
一种用于为显示装置形成黑底的掩模,所述显示装置包括数据线,所述数据线具有相对于像素区的中心部分的折弯结构,所述掩模包括:边框,所述边框具有矩形形状;以及基板,所述基板布置在所述边框上,并且包括透光部分和阻光部分,其中,所述透光部分包括第一透光图案和处于相邻的所述第一透光图案之间的光控制部分,所述透光部分还包括与所述像素区的所述中心部分相对应的折弯部分,并且其中,将所述折弯部分布置为距与其相邻的透光图案的距离相等。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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