[发明专利]一种LPCVD工艺腔加热系统有效
| 申请号: | 201110372325.9 | 申请日: | 2011-11-21 |
| 公开(公告)号: | CN102400111A | 公开(公告)日: | 2012-04-04 |
| 发明(设计)人: | 乔志强 | 申请(专利权)人: | 汉能科技有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/46 | 分类号: | C23C16/46 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 102209 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | 本发明公开了一种LPCVD工艺腔加热系统,具体地讲是一种适用于薄膜电池对TCO超白浮法平板玻璃加热的LPCVD工艺腔加热系统。其包括控制系统、加热部件、被加热体三部分;其中,被加热体为加热板;加热部件包括四根加热丝,加热丝嵌入到加热板中;控制系统包括四个温控器和四个固态继电器,四个温控器分别对应四根加热丝,每个温控器与对应的固态继电器通过两根控制线连接,固态继电器的输出端与加热丝连接。本发明具有加热板温度易控、加热温度精度高、加热均匀、镀膜均匀、成品率高的特点。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 lpcvd 工艺 加热 系统 | ||
【主权项】:
一种LPCVD工艺腔加热系统,包括控制系统、加热部件、被加热体三部分;其中,被加热体为加热板(1);加热部件包括四根加热丝(2),加热丝(2)嵌入到加热板(1)中;控制系统包括四个温控器(3)和四个固态继电器(4),四个温控器(3)分别对应四根加热丝(2),每个温控器(3)与对应的固态继电器(4)通过两根控制线连接,固态继电器(4)的输出端与加热丝(2)连接。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





