[发明专利]基于基元重组的纹理设计与合成方法有效
| 申请号： | 201110350537.7 | 申请日： | 2011-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN102426708A | 公开（公告）日： | 2012-04-25 |
| 发明（设计）人： | 桂彦;马利庄 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学 |
| 主分类号： | G06T11/20 | 分类号： | G06T11/20 |
| 代理公司： | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人： | 赵志远 |
| 地址： | 200240 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基于基元重组的纹理设计与合成方法，包括以下步骤：1)基元抽取；2)基元分类；3)基元分布生成；4)基元放置与变形；5)后处理。与现有技术相比，本发明很好地解决了纹理合成过程中需要参照样本纹理的问题，通过用户可控的处理方式，从而对现有基于样本纹理的合成方法进行了改进。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 重组 纹理 设计 合成 方法 | ||
【主权项】：
一种基于基元重组的纹理设计与合成方法，其特征在于，包括以下步骤：1)基元抽取；2)基元分类；3)基元分布生成；4)基元放置与变形；5)后处理。
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