[发明专利]一种工业硅湿法除P的方法无效

专利信息
申请号: 201110328969.8 申请日: 2011-10-26
公开(公告)号: CN102502651A 公开(公告)日: 2012-06-20
发明(设计)人: 马文会;麦毅;谢克强;周阳;魏奎先;伍继君;龙萍;杨斌;戴永年 申请(专利权)人: 昆明理工大学
主分类号: C01B33/037 分类号: C01B33/037
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 650093 云*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 发明涉及一种工业硅湿法除P的方法,具体涉及一种操作容易,设备简单,能耗省,成本低的去除分凝系数较大的杂质P的方法,属于湿法冶金技术提纯硅的技术领域。本发明将工业硅粉碎细磨成粉,在氯化铵和氟化氢铵的混合溶液中,加热并搅拌一定时间,经过滤、洗涤、干燥后可得P含量低于10ppmw的硅。该法处理后的硅可作为制备太阳能级硅的原料。
搜索关键词: 一种 工业 湿法 方法
【主权项】:
一种工业硅湿法除P的方法,其特征在于具体步骤包括如下:(1)将工业硅破碎细磨成100~600目的硅粉;(2)将硅粉加入到浸出剂中,然后将混合液加热至40~100℃,浸出0.5‑10小时,浸出的同时搅拌0.5~8小时,得到硅粉和浸出剂形成的矿浆;(3)将硅粉和浸出剂形成的矿浆进行液固分离后,用纯净水洗涤1~3次,然后在50~150℃条件下烘干。
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