[发明专利]喷涂光刻胶的方法无效
| 申请号： | 201110298508.0 | 申请日： | 2011-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN102360164A | 公开（公告）日： | 2012-02-22 |
| 发明（设计）人： | 钟政 | 申请（专利权）人： | 上海宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供喷涂光刻胶的方法，提供待喷涂加工的晶圆；提供喷嘴，用于将光刻胶喷洒在所述晶圆表面上；将喷嘴沿晶圆半径方向水平移动并喷洒光刻胶，所述喷嘴从晶圆边缘的起始位置上方水平移动至晶圆的中心位置上方。本发明通过滴胶喷嘴沿晶圆半径方向水平移动喷洒光刻胶，晶圆的转动速度与喷嘴的水平移动速度按照既定工艺参数来执行，解决光刻胶喷涂时晶圆上图形不完全填充的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 喷涂 光刻 方法 | ||
【主权项】：
喷涂光刻胶的方法，其特征在于：提供待喷涂加工的晶圆；提供喷嘴，用于将光刻胶喷洒在所述晶圆表面上；将喷嘴沿晶圆半径方向水平移动并喷洒光刻胶，所述喷嘴从晶圆边缘的起始位置上方水平移动至晶圆的中心位置上方。
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