[发明专利]气流均衡板、腔室装置和基片处理设备有效
| 申请号： | 201110281846.3 | 申请日： | 2011-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN103021778A | 公开（公告）日： | 2013-04-03 |
| 发明（设计）人： | 谭宗良 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 宋合成 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了气流均衡组件、腔室装置和基片处理设备。气流均衡组件，包括：具有第一开口的第一环形板，所述第一环形板上设有多个通孔；和具有第二开口的第二环形板，第二环形板可调节地设在第一环形板上以部分地遮盖第一环形板上的多个通孔，第二环形板的径向宽度沿第二环形板的周向变化，使第二环形板遮盖的多个通孔的面积沿第一环形板的周向变化。根据本发明实施例的气流均衡组件，有利于改善气体分布的均匀性，可以改善基片的处理均匀性。另外，该结构的气流均衡组件，结构简单、易于制备，因此成本较低。此外，针对不同的腔室结构、工艺或是腔室压力，可以灵活地进行调节。 | ||
| 搜索关键词： | 气流 均衡 装置 处理 设备 | ||
【主权项】：
一种气流均衡组件，其特征在于，包括：具有第一开口的第一环形板，所述第一环形板上设有多个通孔；和具有第二开口的第二环形板，所述第二环形板可调节地设在所述第一环形板上以部分地遮盖所述第一环形板上的多个通孔，所述第二环形板的径向宽度沿所述第二环形板的周向变化，使所述第二环形板遮盖的多个通孔的面积沿所述第一环形板的周向变化。
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