[发明专利]设计喷洒气流以镀膜均匀硅薄膜

摘要

本发明主要目的是设计showerhead气流以镀膜均匀硅薄膜。其系统内部主要包含了入口端、抽真空腔、P.I.N型半导体制程腔、破真空腔及出口端。在每个腔体内都设有传动滚轮及真空Pump，及Slit valve，而在制程腔内部则有加热装置、RF电极板，以及最重要的showerhead，以进行制程。

主权项

本发明主要目的是设计showerhead气流以镀膜均匀硅薄膜，其系统内部主要包含了入口端、抽真空腔、P.I.N型半导体制程腔、破真空腔及出口端，在每个腔体内都设有传动滚轮及真空Pump，及Slit valve，而在制程腔内部则有加热装置、RF电极板，以及最重要的showerhead，以进行制程；本发明最重要的就是showerhead设计，其主要是分成了三个部分，当气体从源头端流出时，会先到showerhead的第一层，此层的孔径主要是设计笔直状，能够让气体均匀的流出，接着气体会到达showerhead的第二层，此层的孔径也是笔直状，但是会与第一层有交错的设计，此主要就是让气体不要一次直接笔直到达TCO玻璃，在还没有开始扩散就被Pump抽气带走，且可以保持showerhead有均匀的气流，最后是到达showerhead的第三层，此层的设计是带有漏斗状的设计，其主要目的就是让气体能够像漏斗般的流出，能够完整均匀的流向TCO玻璃上，且不会受到蝶阀控压及Pump抽气而有扰流的情形，故此发明showerhead设计就可以让TCO玻璃有均匀的气体流向，且在RF电极开启Power的时候，这些均匀的气流就可以开始分解成硅原子，并且能够均匀的镀膜在玻璃上，藉此来得到均匀的膜层，并且能够追求有高效率的太阳能硅薄膜电池。