[发明专利]光学元件中频误差的检测方法无效
| 申请号： | 201110279067.X | 申请日： | 2011-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN102435420A | 公开（公告）日： | 2012-05-02 |
| 发明（设计）人： | 徐建程 | 申请（专利权）人： | 浙江师范大学 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 321004 *** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光学元件中频误差的检测方法，包括如下步骤，采用第一干涉仪测量被测光学元件全口径的低频面形分布；将被测光学元件分成N个方形子区域，采用第二干涉仪测量上述各个子区域的面形分布；计算被测光学元件各个子区域内的中频误差的功率谱密度，并计算该被测整个光学元件的中频误差的功率谱密度；判断该光学元件的中频误差是否满足要求，若不满足再判断各个子区域内的中频误差是否满足要求，从而得到中频误差需要返修的区域，进而指导光学加工；其中，所述第二干涉仪的分辨率大于所述第一干涉仪的分辨率。本发明的方法对大口径光学元件移动精度和环境稳定性要求较低，因此有效地降低了检测成本。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 元件 中频 误差 检测 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学元件中频误差的检测方法，其特征在于包括如下步骤，采用第一干涉仪测量被测光学元件全口径的低频面形分布，该第一干涉仪口径不小于被测光学元件的口径；将被测光学元件分成N个方形子区域，采用第二干涉仪测量上述各个子区域的面形分布，该第二干涉仪的口径不小于被测子区域的对角线的长度；计算被测光学元件各个子区域内的中频误差的功率谱密度，并根据![]()
计算该被测整个光学元件的中频误差的功率谱密度；其中，Si和PSDi(u，v)分别表示第i个区域内中频误差的面积和功率谱密度，S0和PSDV(u，v)分别表示大口径光学元件全口径中频误差的面积和功率谱密度；判断该光学元件的中频误差是否满足要求，若不满足再判断各个子区域内的中频误差是否满足要求，从而得到中频误差需要返修的区域，进而指导光学加工；其中，所述第二干涉仪的分辨率大于所述第一干涉仪的分辨率。
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