[发明专利]像素隔离结构以及像素隔离结构制造方法

摘要

本发明提供了一种像素隔离结构以及像素隔离结构制造方法。根据本发明的像素隔离结构包括：衬底、像素结构和隔离结构，其中所述像素结构布置在所述衬底上，并且所述像素结构周围布置了所述隔离结构；并且，所述隔离结构中布置了一层氧化物层。利用所述像素隔离结构，当入射光经过像素结构中的一段距离之后到达隔离结构时，入射光线会进入隔离结构，并且到达隔离结构与氧化物层的分界面；此时，由于作为光密介质的隔离结构的折射率与作为光疏介质的氧化物层的折射率的不同，而使得到达隔离结构与氧化物层之间的边界的光线，部分被反射回像素结构内。如果入射角θ满足特定条件，到达隔离结构与氧化物层之间的边界的光线，完全被反射回像素结构内。由此，减少了光学串扰的出现，从而减少了光学串扰影响到像素结构的正常功能。

主权项

一种像素隔离结构，其特征在于包括：衬底、像素结构和隔离结构，其中所述像素结构布置在所述衬底上，并且所述像素结构周围布置了所述隔离结构；并且，所述隔离结构中布置了一层氧化物层。