[发明专利]轮廓投影仪之投影屏刻画线的制作方法有效

专利信息
申请号: 201110240945.7 申请日: 2011-08-22
公开(公告)号: CN102955346A 公开(公告)日: 2013-03-06
发明(设计)人: 巫孟良 申请(专利权)人: 广东万濠精密仪器股份有限公司
主分类号: G03B21/56 分类号: G03B21/56;G03F7/00
代理公司: 厦门市新华专利商标代理有限公司 35203 代理人: 彭长久
地址: 523000 广东省东莞市长安镇*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开一种轮廓投影仪之投影屏刻画线的制作方法,包括的步骤有:首先,于投影屏之毛玻璃面上镀上不透光膜;接着,于不透光膜上涂覆显影胶,并烘干;然后,盖上坐标线模板,用紫外线对露出坐标线模板的显影胶进行曝光处理;接着,取下坐标线模板,并对位于曝光区或非曝光区中的显影胶进行清洗蚀刻,形成显影胶刻画层;然后,对不透光膜进行清洗蚀刻而形成有膜刻画层;最后,将显影胶刻画层清洗掉;藉此,不会对投影屏玻璃造成损坏,配合利用坐标线模板和紫外线对显影胶进行曝光处理,然后进行蚀刻,使得每个刻画线的宽窄更加容易得到控制,利于保证刻画线的一致性,提升对产品测量的精准度。
搜索关键词: 轮廓 投影仪 投影 刻画 制作方法
【主权项】:
一种轮廓投影仪之投影屏刻画线的制作方法,其特征在于:包括的步骤有(1)于投影屏之毛玻璃面上镀上一层不透光膜;(2)于该不透光膜上涂覆一层显影胶,并对显影胶进行烘干处理;(3)于显影胶上盖上坐标线模板,并使用紫外线对露出坐标线模板的显影胶进行曝光处理,曝光处理后,在显影胶上形成有曝光区和非曝光区;(4)取下坐标线模板,并对位于曝光区或非曝光区中的显影胶进行清洗蚀刻,使得在不透光膜上形成有显影胶刻画层;(5)对位于相邻两显影胶刻画层之间的不透光膜进行清洗蚀刻而形成有膜刻画层,前述显影胶刻画层叠于该膜刻画层的表面上;(6)将显影胶刻画层清洗掉而形成刻画线。
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