[发明专利]一种用于多晶硅制绒后清洗的清洗液及其制备方法无效
| 申请号： | 201110230942.5 | 申请日： | 2011-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN102330101A | 公开（公告）日： | 2012-01-25 |
| 发明（设计）人： | 顾峰 | 申请（专利权）人： | 无锡尚品太阳能电力科技有限公司 |
| 主分类号： | C23G1/14 | 分类号： | C23G1/14;C30B33/10 |
| 代理公司： | 无锡市大为专利商标事务所 32104 | 代理人： | 殷红梅 |
| 地址： | 214181 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于多晶硅制绒后清洗的清洗液的制备方法，特征是，包括以下步骤，其组份比例按重量份数计：取99.6～99.8份去离子注入到清洗槽中，加入0.1～0.2份氢氧化钠充分搅拌均匀，再加入0.1～0.2份制绒添加剂，充分搅拌均匀后，即得到所述的清洗液成品。本发明与已有技术相比具有以下优点：1、本发明在传统的工艺基础上引入一种添加剂，提高了腐蚀因子，降低了反应速度，方便控制；2、多晶硅片制绒碱清洗后表面一致性，反射率低；3、硅片抛光现象彻底解决；4、电池片的转化效率和质量都比传统工艺有很大的提高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 多晶 硅制绒后 清洗 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种用于多晶硅制绒后清洗的清洗液，其特征是，包括以下组份，其组份比例按重量份数计：氢氧化钠0.1～0.2份、制绒添加剂0.1～0.2份、去离子水99.6～99.8份；将去离子水注入清洗槽中，加入氢氧化钠和制绒添加剂即得到所述的清洗液。
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