[发明专利]一类高介电、低损耗仿晶界层电容器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201110216528.9 申请日: 2011-07-22
公开(公告)号: CN102436929A 公开(公告)日: 2012-05-02
发明(设计)人: 王焱;孙静;靳喜海;刘阳桥 申请(专利权)人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
主分类号: H01G4/008 分类号: H01G4/008;H01G4/06;H01G4/12
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一类高介电、低损耗仿晶界层电容器及其制备方法,其特征在于以具有高导电氮化物单元(核)/高介电绝缘层结构(壳)的核壳结构复合粉体代替传统晶界层电容器的材料单元,采用SPS烧结工艺制备高介电、低损耗的仿晶界层电容器。所述的仿晶界层电容器材料包括SrTiO3/TiN、BaTiO3/ZrN、CaTiO3/TiN、MgTiO3/NbN、(Ba,Sr)TiO3/TiN和Pb(Mg1/3Nb2/3)O3/NbN等。本发明的设计理念突破了传统晶界层电容器仅限于SrTiO3和BaTiO3等极个别陶瓷材料这一缺点,将其推广到一系列高介电陶瓷材料,从而可以大大扩展“晶界层电容器”的家族规模。
搜索关键词: 一类 高介电 损耗 仿晶界层 电容器 及其 制备 方法
【主权项】:
一类高介电、低损耗仿晶界层电容器,其特征在于:以具有高导电性能的氮化物材料作为仿晶界层电容器的核单元材料;以具有高介电绝缘性能的材料作为仿晶界层电容器的壳层单元材料;利用离子型表面活性剂改变导电单元或介电单元材料表面电荷,通过粉体表面不同电荷间的静电吸附作用合成具有核/壳结构的复合粉体;利用SPS烧结法和退火工艺制备仿晶界层电容器;其中,a)作为核单元材料的具有高导电性能的氮化物为单分散的ZrN、TiN或NbN中一种或任意二种;b)作为壳层单元材料的具有高介电绝缘性能的材料为SrTiO3、BaTiO3、(Ba、Sr)TiO3、CaTiO3、Pb(Mg1/3Nb2/3)O3或MgTiO3中的一种或几种;c)导电的氮化物材料与绝缘仿晶界层电容器的核单元材料与壳层材料的摩尔比介于10∶1‑1∶200之间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海硅酸盐研究所,未经中国科学院上海硅酸盐研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110216528.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top