[发明专利]用于光学涂层的保护层有效
| 申请号： | 201110193472.X | 申请日： | 2003-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN102229471A | 公开（公告）日： | 2011-11-02 |
| 发明（设计）人： | K·W·胡卡里;P·A·马施威茨;R·D·丹嫩伯格 | 申请（专利权）人： | 旭硝子北美平板玻璃公司 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 任宗华 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 为透明底物(1)上的光学涂层提供临时性碳保护层(3)作为生产过程中抗划伤和腐蚀性环境的保护。当在碳的反应性气氛，诸如空气中，将光学涂层和/或底物回火时，碳层以含碳气体的形式除去。对于带有距底物(1)最远处的脆性玻璃质最外层(2a)的光学涂层而言，通过在最外层(2a)和碳保护层(3)之间的划痕传播阻滞剂层(4)提供了额外的保护。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光学 涂层 保护层 | ||
【主权项】：
一种制备透明制品的方法，所述方法包括提供具有光学涂层的底物，所述光学涂层在距底物最远处包括均匀的最外层；和在最外层上形成划痕传播阻滞剂层，其中划痕传播阻滞剂层是包括选自下列的材料的均匀层：Ti、Si、Zn、Sn、In、Zr、Al、Cr、Nb、Mo、Hf、Ta和W；Ti、Si、Zn、Sn、In、Zr、Al、Cr、Nb、Mo、Hf、Ta和W的氧化物；Ti、Si、Zn、Sn、In、Zr、Al、Cr、Nb、Mo、Hf、Ta和W的氮化物；及其混合物。
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