[发明专利]阵列式水波导激光加工装置

摘要

阵列式水波导激光加工装置，涉及一种激光加工装置。提供一种可解决背景技术部分中所述加工范围小和效率低的技术问题，以及加工柔性不足等缺点的阵列式水波导激光加工装置。设有激光器、倒置望远镜、镜筒、第1透射反射镜阵列、第2透射反射镜阵列、第1反射镜、聚焦透镜阵列、喷嘴体、带套环支架、支架、带过滤器的水收集器、夹具、数控平台、摄像机、水循环系统、计算机数控装置、观测激光器、第2反射镜、管接头、水腔体、平板玻璃和压环。

主权项

阵列式水波导激光加工装置，其特征在于设有激光器、倒置望远镜、镜筒、第1透射反射镜阵列、第2透射反射镜阵列、第1反射镜、聚焦透镜阵列、喷嘴体、带套环支架、支架、带过滤器的水收集器、夹具、数控平台、摄像机、水循环系统、计算机数控装置、观测激光器、第2反射镜、管接头、水腔体、平板玻璃和压环；所述倒置望远镜安装于激光器发出的加工激光束的正前方，所述倒置望远镜设于镜筒3上，镜筒固定在水腔体上方；所述第1透射反射镜阵列为1行×m列，所述第2透射反射镜阵列为n行×m列，所述聚焦透镜阵列为n行×m列，所述喷嘴体设有喷嘴阵列，所述喷嘴阵列为n行×m列，其中n，m均为正整数；第1透射反射镜阵列和第1反射镜沿着激光器发出激光的轴向顺序安装于镜筒内，所述第1反射镜对应于轴向上的第1透射反射镜阵列的最后一列；第2反射镜设于第2透射反射镜阵列的最后一行；聚焦透镜阵列安装于镜筒内，聚焦透镜阵列位于第2透射反射镜阵列的下方；带套环支架设在用于调节高度的支架上，支架安装于数控平台的固定底座上方；用于为水循环系统提供去离子水的带过滤器的水收集器安装在水循环系统的回路上，所述水循环系统固定于地基上；用于固定待加工工件的夹具固定在数控平台上，数控平台带动待加工工件在垂直于加工激光轴的平面上运动；摄像机安装在观测激光器发出的观测激光束前方；计算机数控装置与数控平台连接；观测激光器与激光器发出的加工激光束同轴耦合安装；第2反射镜安装于观测激光器与激光器之间；管接头与水腔体和镜筒连接，平板玻璃安装于镜筒下方和水腔体上方，所述水腔体固定在带套环支架上，压环设在水腔体下方。