[发明专利]聚方酸类共轭聚合物及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 201110175951.9 | 申请日： | 2011-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN102382284B | 公开（公告）日： | 2013-04-03 |
| 发明（设计）人： | 黄艳;杨道宾;霍二福;蒋菁;卢志云 | 申请（专利权）人： | 四川大学 |
| 主分类号： | C08G61/12 | 分类号： | C08G61/12;H01L51/46 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610207 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及方酸聚合物，特别涉及一类聚方酸类共轭聚合物，该类聚合物具有良好的溶解稳定性，吸收光谱与太阳光谱匹配良好，可用于聚合物太阳电池。本发明还涉及聚方酸类共轭聚合物的制备方法和该聚合物的应用。本发明的技术解决方案是：1)通过采用在吡咯的氮原子上引入大的芳香支链，如：烷氧苯基、烷氧苯基亚甲基、烷氧联苯亚甲基等，来减少聚合物分子链间的堆积，从而增加聚合物的溶解稳定性，提高其加工性能；2)通过采用在吡咯的氮原子上引入介晶片段的办法来提高聚合物的局部有序性。 | ||
| 搜索关键词： | 聚方酸类 共轭 聚合物 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.聚方酸类共轭聚合物，其结构具有如下通式Ⅰ：![]()
式I中，所述Ar是以二吡咯乙烯基噻吩为构造单元，n为聚合物主链单元的重复个数，为自然数5-50之间，其特征在于所述Ar为如下基团1至4中的任意一个：基团1：![]()
基团2：![]()
基团3：![]()
基团4：![]()
基团中所述R1和R2为相同或不相同的氢原子﹑碳原子数为1-20的直链或支链的烷基。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于四川大学，未经四川大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110175951.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
