[发明专利]含硅大分子光引发剂及其制备方法无效
申请号: | 201110168727.7 | 申请日: | 2011-06-17 |
公开(公告)号: | CN102286113A | 公开(公告)日: | 2011-12-21 |
发明(设计)人: | 马贵平;姜苹;聂俊 | 申请(专利权)人: | 北京化工大学常州先进材料研究院 |
主分类号: | C08F2/48 | 分类号: | C08F2/48;C08G77/38 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 213164 江苏省常*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种含有硅的大分子光引发剂及其制备方法。将顺丁烯二酸酐溶解于有机溶剂中,加入到存在氮气保护的四口烧瓶中,再将含硅树脂溶于有机溶剂中滴加到四口烧瓶中,滴加完毕后室温搅拌1~3h。将Lewis酸加入到四口烧瓶中,升温到20~60℃,再将溶于有机溶剂的六甲基二硅胺(HMDS)滴加进混合液中,滴加完毕后,保持20~60℃,回流冷凝搅拌1~3h。将上述溶液冷却至室温,过滤,然后用旋转蒸发仪除去溶剂,即得含硅的大分子光引发剂。该制备方法具有反应步骤简单、后处理步骤少,易于控制,成本低,易于实现工业化。 | ||
搜索关键词: | 大分子 引发 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
本发明提供一种含硅大分子光引发剂及其制备方法,结构通式如下:式中,R1为氢原子、甲基、甲氧基、卤素中的一种;R2为氢原子、甲基、甲氧基、卤素中的一种;R3为C1-C12不同链长的烷基、N,O,S等杂原子取代的C1-C12不同链长的烷基和带有不同取代基的芳基。1.一种含硅的大分子光引发剂的制备方法,其特征在于包括以下步骤:(1)将顺丁烯二酸酐溶解于有机溶剂中,加入到存在氮气保护的四口烧瓶中,再将含硅树脂溶于有机溶剂中滴加到四口烧瓶中,滴加完毕后室温搅拌1~3h;(2)将Lewis酸加入到四口烧瓶中,升温到20~60℃,将溶于有机溶剂的六甲基二硅胺(HMDS)滴加进混合液中,滴加完毕后,保持20~60℃,回流冷凝搅拌1~3h;(3)将上述溶液冷却至室温,过滤,然后用旋转蒸发仪除去溶剂,即得含硅的大分子光引发剂。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京化工大学常州先进材料研究院,未经北京化工大学常州先进材料研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110168727.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:下行信道质量值的更新方法和设备
- 下一篇:确定初始相位的方法、装置及基站