[发明专利]含硅大分子光引发剂及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201110168727.7 申请日: 2011-06-17
公开(公告)号: CN102286113A 公开(公告)日: 2011-12-21
发明(设计)人: 马贵平;姜苹;聂俊 申请(专利权)人: 北京化工大学常州先进材料研究院
主分类号: C08F2/48 分类号: C08F2/48;C08G77/38
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 213164 江苏省常*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种含有硅的大分子光引发剂及其制备方法。将顺丁烯二酸酐溶解于有机溶剂中,加入到存在氮气保护的四口烧瓶中,再将含硅树脂溶于有机溶剂中滴加到四口烧瓶中,滴加完毕后室温搅拌1~3h。将Lewis酸加入到四口烧瓶中,升温到20~60℃,再将溶于有机溶剂的六甲基二硅胺(HMDS)滴加进混合液中,滴加完毕后,保持20~60℃,回流冷凝搅拌1~3h。将上述溶液冷却至室温,过滤,然后用旋转蒸发仪除去溶剂,即得含硅的大分子光引发剂。该制备方法具有反应步骤简单、后处理步骤少,易于控制,成本低,易于实现工业化。
搜索关键词: 大分子 引发 及其 制备 方法
【主权项】:
本发明提供一种含硅大分子光引发剂及其制备方法,结构通式如下:式中,R1为氢原子、甲基、甲氧基、卤素中的一种;R2为氢原子、甲基、甲氧基、卤素中的一种;R3为C1-C12不同链长的烷基、N,O,S等杂原子取代的C1-C12不同链长的烷基和带有不同取代基的芳基。1.一种含硅的大分子光引发剂的制备方法,其特征在于包括以下步骤:(1)将顺丁烯二酸酐溶解于有机溶剂中,加入到存在氮气保护的四口烧瓶中,再将含硅树脂溶于有机溶剂中滴加到四口烧瓶中,滴加完毕后室温搅拌1~3h;(2)将Lewis酸加入到四口烧瓶中,升温到20~60℃,将溶于有机溶剂的六甲基二硅胺(HMDS)滴加进混合液中,滴加完毕后,保持20~60℃,回流冷凝搅拌1~3h;(3)将上述溶液冷却至室温,过滤,然后用旋转蒸发仪除去溶剂,即得含硅的大分子光引发剂。
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