[发明专利]显微镜及聚焦方法有效
申请号: | 201110168058.3 | 申请日: | 2011-06-21 |
公开(公告)号: | CN102298206A | 公开(公告)日: | 2011-12-28 |
发明(设计)人: | 田部典宏;山本隆司;林信裕;成泽龙 | 申请(专利权)人: | 索尼公司 |
主分类号: | G02B21/00 | 分类号: | G02B21/00;G02B21/06;G02B21/36;G02B21/24 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 余刚;吴孟秋 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明公开了一种显微镜及聚焦方法,其中显微镜,包括:照明光学系统;第一成像光学系统;第二成像光学系统;照明视场光阑焦点调节部;以及特征量计算块,其中,照明视场光阑焦点调节部根据由特征量计算块所计算的特征量来调节照明视场光阑的成像位置。 | ||
搜索关键词: | 显微镜 聚焦 方法 | ||
【主权项】:
一种显微镜,包括:照明光学系统,设有照明视场光阑以及一个或多个照明光学元件,作为被配置为将照明光投射至镜台上所放置的样品的光学系统;第一成像光学系统,设有:第一摄像元件,被配置为基于透过所述样品的透射光来获取图像;以及一个或多个第一光学元件,被配置为基于所述透射光在所述第一摄像元件上使所述图像成像;第二成像光学系统,设有:光束分离部,被配置为将所述第一成像光学系统中传播的所述透射光进行分离以从所述透射光中获取部分光束;第二摄像元件,被配置为基于所述部分光束获取相差图像;以及一个或多个第二光学元件,被配置为基于所述部分光束在所述第二摄像元件上使所述相差图像成像;照明视场光阑焦点调节部,被配置为调节所述照明视场光阑成像的成像位置;以及特征量计算块,被配置为根据由所述第二摄像元件所生成的输出信号来计算表示所述照明视场光阑的焦点偏移度的特征量,其中,所述照明视场光阑焦点调节部根据所述特征量计算块所计算的所述特征量来调节所述照明视场光阑的所述成像位置。
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