[发明专利]包含作为脱水剂的甲硅烷基衍生物的组合物有效
| 申请号： | 201110168056.4 | 申请日： | 2005-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN102336887A | 公开（公告）日： | 2012-02-01 |
| 发明（设计）人： | J-M·A·E·伯纳德;P·巴尔博 | 申请（专利权）人： | 佩什托普法国公司 |
| 主分类号： | C08G18/79 | 分类号： | C08G18/79;C08G18/50;C08G18/08 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 张力更 |
| 地址： | 法国圣*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明公开了一种组合物，包含具有最多5％二异氰酸酯单体的异氰酸酯亚组合物，选自带有连接到硫族的准金属上或氮族的原子上的二烃基甲硅烷基基团的化合物的脱水剂。本发明可应用于涂料工业，特别是油漆和粘合剂。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 作为 脱水 硅烷 衍生物 组合 | ||
【主权项】：
1.组合物，包含至少一种具有最多5重量％的二异氰酸酯单体的异氰酸酯亚组合物，至少一种下式的脱水剂：![]()
其中Z是烃基，硅氧烷基或者硅氮烷基，Hc和Hc’独立地是具有至多15个碳原子的烃基，v是0或1，并且Y是：i)氨基，任选地具有选自如下的取代基：含氧酸在去除羟基之后的残基，烃基，三烃基甲硅烷基，以及下式的基团；![]()
其中Hc°、Hc°’和Z’分别具有前述针对Hc、Hc’和Z的定义，或者ii)带有取代基的硒、硫或氧原子，该取代基是含氧酸在去除羟基之后的残基，以及至少一种不可烷基化的有机或无机碱，其用量为以硅原子当量表示的二烃基亚甲硅烷基的量的至少0.1倍。
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