[发明专利]一种高精度测向阵列结构设计方法无效

专利信息
申请号: 201110166421.8 申请日: 2011-06-20
公开(公告)号: CN102353930A 公开(公告)日: 2012-02-15
发明(设计)人: 刘志强;马红光;王国华 申请(专利权)人: 中国人民解放军第二炮兵工程学院
主分类号: G01S3/00 分类号: G01S3/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 710025 陕西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种用于波达估计的阵列结构设计方法。通过对阵元位置的优化以实现非等距阵列的布置,包括:确定最小阵元间距dmin,最大阵元位置dmax,所用阵元数N;计算阵列可调布阵距离D=dmax-(N-1)dmin;对由性能参数G和旁瓣或栅瓣高度来表征的阵列进行优化设计;输出现有最优结果等几大步骤。本发明方法通过优化设计,在保证阵元间距不小于某一特定值条件下,使测向阵列在测向精度与空间谱伪峰高度之间达到最优化,选用该方法设计的合适阵列可以在较少阵元条件下同时实现较低的空间谱伪峰与较高测向精度,并能使阵元间距突破半波长限制,以减小阵元间互耦效应,提高测向精度,也为增大阵元孔径探测更微弱信号预留一定空间,提供了一种行之有效的优化设计方法。
搜索关键词: 一种 高精度 测向 阵列 结构设计 方法
【主权项】:
一种高精度测向阵列结构设计方法,其特征在于:在满足条件“阵元间距不小于设定值”且性能参数相同的所有阵列中,通过对阵元位置的优化以实现非等距阵列的布置,求得一系列阵列结构,使其静态方向图的旁瓣最低,具体设计步骤如下:步骤1:确定最小阵元间距dmin,最大阵元位置dmax,所用阵元数N;步骤2:计算阵列可调布阵距离D=dmax‑(N‑1)dmi步骤3:对由性能参数G和旁瓣或栅瓣高度来表征的阵列进行优化设计;步骤4:输出现有最优结果。
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